PLASMA TREATMENT Komponenten für PVD & PECVD Prozesse

PLASMA & IONEN-STRAHLQUELLEN

Die für die Behandlung und Modifikation von Oberflächen benötigten Plasmen unterscheiden sich teilweise in Ihren Eigenschaften von den bei der PECVD verwendeten. Der Erzeugung dienen meist die gleichen Prinzipien wie HF- oder Mikrowellen ECR. Um den genauen Effekt auf die Oberfläche einstellen zu können, werden die im Plasma befindlichen Ionen oft nachbeschleunigt um höhere Energien in die Oberflächen einzubringen…

PLASMA TREATMENT KOMPONENTEN | Plasma & Ion Beam Sources

PLASMA & IONEN-STRAHLQUELLEN

Die für die Behandlung und Modifikation von Oberflächen benötigten Plasmen unterscheiden sich teilweise in Ihren Eigenschaften von den bei der PECVD verwendeten. Der Erzeugung dienen meist die gleichen Prinzipien wie HF- oder Mikrowellen ECR. Um den genauen Effekt auf die Oberfläche einstellen zu können, werden die im Plasma befindlichen Ionen oft nachbeschleunigt um höhere Energien in die Oberflächen einzubringen, oder aber im Gegenteil dazu sogar vom Substrat ferngehalten um dort möglichst keine Schäden anzurichten.

PLASMA TREATMENT KOMPONENTEN | Plasma & Ion Beam Sources

PLASMA &
IONEN-
STRAHLQUELLEN

Die für die Behandlung und Modifikation von Oberflächen benötigten Plasmen unterscheiden sich teilweise in Ihren Eigenschaften von den bei der PECVD verwendeten. Der Erzeugung dienen meist die gleichen Prinzipien wie HF- oder Mikrowellen ECR. Um den genauen Effekt auf die Oberfläche einstellen zu können, werden die im Plasma befindlichen Ionen oft nachbeschleunigt um höhere Energien in die Oberflächen einzubringen, oder aber im Gegenteil dazu sogar vom Substrat ferngehalten um dort möglichst keine Schäden anzurichten.

PLASMA TREATMENT KOMPONENTEN | Plasma & Ion Beam Sources

PLASMA MONITORING &
PROCESS CONTROL

Die Prozesssteuerung ist bei industriellen Plasmaanwendungen unerlässlich, um Zuverlässigkeit und hohe Qualität zu gewährleisten. Das EMICON-System ist ein Plasmamonitorsystem, das auf der optischen Emissionsspektroskopie basiert und in Echtzeit gestattet, die Prozesse in Ihrer Plasmaanwendung zu analysieren, zu optimieren und zu steuern.

PLASUS | Plasma Monitoring & Process Control

PLASMA MONITORING &
PROCESS CONTROL

Die Prozesssteuerung ist bei industriellen Plasmaanwendungen unerlässlich, um Zuverlässigkeit und hohe Qualität zu gewährleisten. Das EMICON-System ist ein Plasmamonitorsystem, das auf der optischen Emissionsspektroskopie basiert und in Echtzeit gestattet, die Prozesse in Ihrer Plasmaanwendung zu analysieren, zu optimieren und zu steuern.

PLASUS | Plasma Monitoring & Process Control

PLASMA MONITORING &
PROCESS CONTROL

Die Prozesssteuerung ist bei industriellen Plasmaanwendungen unerlässlich, um Zuverlässigkeit und hohe Qualität zu gewährleisten. Das EMICON-System ist ein Plasmamonitorsystem, das auf der optischen Emissionsspektroskopie basiert und in Echtzeit gestattet, die Prozesse in Ihrer Plasmaanwendung zu analysieren, zu optimieren und zu steuern.

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