PVD-Materialien
SPUTTER TARGETS
robeko bietet eine große Auswahl an Hochleistungs-Dünnschicht-Beschichtungsmaterialien für Magnetrons aller Hersteller und eine Vielzahl von Anwendungen an, beispielsweise für großflächige Beschichtungen, Präzisionsoptiken, Touch-Panels, tribologische und dekorative Beschichtungen.
Unsere Lieferkette besteht aus eigenen Fertigungskapazitäten in Kombination mit langfristigen Partnerschaften, um maximale Qualität, minimale Durchlaufzeiten und äußerst wettbewerbsfähige Preise zu gewährleisten.
Sputter Targets
robeko provides a wide range of high performance thin film coating materials for magnetrons of all manufacturers and a large variety of applications, for example large area coating, precision optics, touch panels, tribological and decorative coatings.
Our supply chain consists of own manufacturing capabilities combined with long-term partnerships to assure maximum quality, minimal lead times and highly competitive prices.
Copper
robeko manufactures planar and cylindrical sputtering targets for application in electronics and display production. We provide cylindrical monolithic targets of industrial standard size. Thus we guarantee maximum material density, small grain size and maximum power density combined with good recyclability. The raw material is always on stock.
SPUTTER TARGETS
robeko bietet eine große Auswahl an Hochleistungs-Dünnschicht-Beschichtungsmaterialien für Magnetrons aller Hersteller und eine Vielzahl von Anwendungen an, beispielsweise für großflächige Beschichtungen, Präzisionsoptiken, Touch-Panels, tribologische und dekorative Beschichtungen.
Unsere Lieferkette besteht aus eigenen Fertigungskapazitäten in Kombination mit langfristigen Partnerschaften, um maximale Qualität, minimale Durchlaufzeiten und äußerst wettbewerbsfähige Preise zu gewährleisten.
Sputter Targets
robeko provides a wide range of high performance thin film coating materials for magnetrons of all manufacturers and a large variety of applications, for example large area coating, precision optics, touch panels, tribological and decorative coatings.
Our supply chain consists of own manufacturing capabilities combined with long-term partnerships to assure maximum quality, minimal lead times and highly competitive prices.
Copper
robeko manufactures planar and cylindrical sputtering targets for application in electronics and display production. We provide cylindrical monolithic targets of industrial standard size. Thus we guarantee maximum material density, small grain size and maximum power density combined with good recyclability. The raw material is always on stock.
SPUTTER TARGETS
robeko bietet eine große Auswahl an Hochleistungs-Dünnschicht-Beschichtungsmaterialien für Magnetrons aller Hersteller und eine Vielzahl von Anwendungen an, beispielsweise für großflächige Beschichtungen, Präzisionsoptiken, Touch-Panels, tribologische und dekorative Beschichtungen.
Unsere Lieferkette besteht aus eigenen Fertigungskapazitäten in Kombination mit langfristigen Partnerschaften, um maximale Qualität, minimale Durchlaufzeiten und äußerst wettbewerbsfähige Preise zu gewährleisten.
Sputter Targets
robeko provides a wide range of high performance thin film coating materials for magnetrons of all manufacturers and a large variety of applications, for example large area coating, precision optics, touch panels, tribological and decorative coatings.
Our supply chain consists of own manufacturing capabilities combined with long-term partnerships to assure maximum quality, minimal lead times and highly competitive prices.
Copper
robeko manufactures planar and cylindrical sputtering targets for application in electronics and display production. We provide cylindrical monolithic targets of industrial standard size. Thus we guarantee maximum material density, small grain size and maximum power density combined with good recyclability. The raw material is always on stock.
VERDAMPFER-
MATERIALIEN
MATERIALIEN
robeko – Verdampfungsmaterialien werden in vielen verschiedenen Anwendungen eingesetzt, z.B. bei Elektronenstrahl- und thermischer Verdampfung. Unser umfangreiches Sortiment umfasst Materialien für ophthalmische Produkte, Präzisionsoptiken, Kontaktbeschichtungen, Mikroelektronik usw.
Wir liefern Tablets, Pellets und Granulate in verschiedenen optimierten Maschenweiten.
Verdampfer-Materialien
Many sputtering targets must be bonded to a backplate or magnetron heatsink. In the area of high sputtering performance, the proper bonding process is essential to ensure the mechanical stability of the target to counteract cracking, deformation, and delamination.
VERDAMPFER-MATERIALIEN
robeko – Verdampfungsmaterialien werden in vielen verschiedenen Anwendungen eingesetzt, z.B. bei Elektronenstrahl- und thermischer Verdampfung. Unser umfangreiches Sortiment umfasst Materialien für ophthalmische Produkte, Präzisionsoptiken, Kontaktbeschichtungen, Mikroelektronik usw.
Wir liefern Tablets, Pellets und Granulate in verschiedenen optimierten Maschenweiten.
Verdampfer-Materialien
Many sputtering targets must be bonded to a backplate or magnetron heatsink. In the area of high sputtering performance, the proper bonding process is essential to ensure the mechanical stability of the target to counteract cracking, deformation, and delamination.
VERDAMPFER-
MATERIALIEN
MATERIALIEN
robeko – Verdampfungsmaterialien werden in vielen verschiedenen Anwendungen eingesetzt, z.B. bei Elektronenstrahl- und thermischer Verdampfung. Unser umfangreiches Sortiment umfasst Materialien für ophthalmische Produkte, Präzisionsoptiken, Kontaktbeschichtungen, Mikroelektronik usw.
Wir liefern Tablets, Pellets und Granulate in verschiedenen optimierten Maschenweiten.
Verdampfer-Materialien
Many sputtering targets must be bonded to a backplate or magnetron heatsink. In the area of high sputtering performance, the proper bonding process is essential to ensure the mechanical stability of the target to counteract cracking, deformation, and delamination.
TARGET BONDEN
Viele Sputter Targets müssen auf eine Rückplatte oder einen Magnetronkühlkörper gebondet werden. Im Bereich hoher Sputterleistungen ist das richtige Bondverfahren essentiell wichtig, um die mechanische Stabilität des Targets zu gewährleisten, um Rissbildung, Deformation und Ablösung entgegen zu wirken. Unsere Mitarbeiter können in diesem Bereich auf jahrzehntelange Erfahrung zurückblicken und Sie bei der Auswahl des geeigneten Verfahrens eingehend beraten und unterstützen. Die richtige Wahl der Haftschicht, Diffusionsbarriere und der damit in Verbindung stehenden optimalen Bondmethode ist die Voraussetzung für perfekte Resultate.
Target Bonden
Many sputtering targets need to be bonded to a backing plate or a magnetron body. When it comes to high power sputtering with low target cracking and good mechanical stability, the bonding procedure is crucial. Our engineers and bonding staff can look back on many years of experience in providing joining techniques to correlate with different material combinations and applications. The right choice of adherence coating, diffusion barriers and the adequate bonding method is a prerequisite for obtaining perfect results.
TARGET BONDEN
Viele Sputter Targets müssen auf eine Rückplatte oder einen Magnetronkühlkörper gebondet werden. Im Bereich hoher Sputterleistungen ist das richtige Bondverfahren essentiell wichtig, um die mechanische Stabilität des Targets zu gewährleisten, um Rissbildung, Deformation und Ablösung entgegen zu wirken. Unsere Mitarbeiter können in diesem Bereich auf jahrzehntelange Erfahrung zurückblicken und Sie bei der Auswahl des geeigneten Verfahrens eingehend beraten und unterstützen. Die richtige Wahl der Haftschicht, Diffusionsbarriere und der damit in Verbindung stehenden optimalen Bondmethode ist die Voraussetzung für perfekte Resultate.
Target Bonden
Many sputtering targets need to be bonded to a backing plate or a magnetron body. When it comes to high power sputtering with low target cracking and good mechanical stability, the bonding procedure is crucial. Our engineers and bonding staff can look back on many years of experience in providing joining techniques to correlate with different material combinations and applications. The right choice of adherence coating, diffusion barriers and the adequate bonding method is a prerequisite for obtaining perfect results.
TARGET
BONDEN
BONDEN
Viele Sputter Targets müssen auf eine Rückplatte oder einen Magnetronkühlkörper gebondet werden. Im Bereich hoher Sputterleistungen ist das richtige Bondverfahren essentiell wichtig, um die mechanische Stabilität des Targets zu gewährleisten, um Rissbildung, Deformation und Ablösung entgegen zu wirken. Unsere Mitarbeiter können in diesem Bereich auf jahrzehntelange Erfahrung zurückblicken und Sie bei der Auswahl des geeigneten Verfahrens eingehend beraten und unterstützen. Die richtige Wahl der Haftschicht, Diffusionsbarriere und der damit in Verbindung stehenden optimalen Bondmethode ist die Voraussetzung für perfekte Resultate.
Target Bonden
Many sputtering targets need to be bonded to a backing plate or a magnetron body. When it comes to high power sputtering with low target cracking and good mechanical stability, the bonding procedure is crucial. Our engineers and bonding staff can look back on many years of experience in providing joining techniques to correlate with different material combinations and applications. The right choice of adherence coating, diffusion barriers and the adequate bonding method is a prerequisite for obtaining perfect results.
