PECVD2019-09-12T14:18:28+02:00

PECVD

Die PECVD-Technik ist eine weit verbreitete Methode zur Dünnschichterzeugung. Die Abkürzung PECVD steht für „Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition“ und ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD – Chemical Vapor Deposition). Wie bei der gewöhnlichen CVD, werden hier Chemikalien aus der Gasphase als Schicht auf einem festen Trägermaterial abgeschieden. Das Plasma liefert dabei die Energie um für den Prozess benötigte Ausgangschemikalien (engl. Precursor) aufzuspalten und in Form von Radikalen für die gewünschte Reaktion bereit zu stellen. Die Plasmaerzeugung erfolgt hierbei häufig durch Mikrowelle oder Hochfrequenz. Gängige Verfahren sind z.B. die Herstellung von amorphem Silizium- oder DLC-Schichten. Im Unterschied zur CVD findet der Prozess bei vergleichsweise niedrigen Temperaturen statt und erlaubt die Verwendung von temperaturempfindlichen Substraten.

PECVD KOMPONENTEN
PECVD KOMPONENTEN
MEHR INFORMATION
PECVD TECHNOLOGIE
PECVD TECHNOLOGIE
MEHR INFORMATION

UNSERE PARTNER