PECVD –
KOMPONENTEN
PLASMAQUELLEN
Zur Erzeugung von Plasmen verwendet man die verschiedensten Typen von Plasmaquellen. Angefangen von der simplen DC Gleichstromentladung, über HF-ECR oder Mikrowellenquellen gibt es viele Möglichkeiten ein Plasma zu erzeugen. robeko – bietet für die verschiedensten Anwendungen ein breite Auswahl an unterschiedlichen Typen an.
PLASMA MONITORING & PROCESS CONTROL
Die Prozesssteuerung ist bei industriellen Plasmaanwendungen unerlässlich, um Zuverlässigkeit und hohe Qualität zu gewährleisten. Das EMICON-System ist ein Plasma-monitorsystem, das auf der optischen Emissionsspektroskopie basiert und in Echtzeit gestattet, die Prozesse in Ihrer Plasmaanwendung zu analysieren, zu optimieren und zu steuern.
PLASMADIAGNOSTIK
Das exakte Messen von Prozessparametern ist entscheidend für den Erfolg in der Dünnschichttechnologie. In wenigen Bereichen ist die Prozessstabilität und Wiederholbarkeit so wichtig wie bei der Erzeugung von Schichten im Nanometerbereich. Die Mess- und Sensortechnik von impedans ermöglicht Zugang zu Bereichen an der Grenze des Möglichen.
