PECVD Komponenten
PLASMAQUELLEN
Zur Erzeugung von Plasmen verwendet man die verschiedensten Typen von Plasmaquellen. Angefangen von der simplen DC Gleichstromentladung, über HF-ECR oder Mikrowellenquellen gibt es viele Möglichkeiten ein Plasma zu erzeugen.
robeko – bietet für die verschiedensten Anwendungen ein breite Auswahl an unterschiedlichen Typen an.
PLASMAQUELLEN
Zur Erzeugung von Plasmen verwendet man die verschiedensten Typen von Plasmaquellen. Angefangen von der simplen DC Gleichstromentladung, über HF-ECR oder Mikrowellenquellen gibt es viele Möglichkeiten ein Plasma zu erzeugen.
robeko – bietet für die verschiedensten Anwendungen ein breite Auswahl an unterschiedlichen Typen an.
PLASMAQUELLEN
Zur Erzeugung von Plasmen verwendet man die verschiedensten Typen von Plasmaquellen. Angefangen von der simplen DC Gleichstromentladung, über HF-ECR oder Mikrowellenquellen gibt es viele Möglichkeiten ein Plasma zu erzeugen.
robeko – bietet für die verschiedensten Anwendungen ein breite Auswahl an unterschiedlichen Typen an.
PLASMA MONITORING &
PROCESS CONTROL
PROCESS CONTROL
Die Prozesssteuerung ist bei industriellen Plasmaanwendungen unerlässlich, um Zuverlässigkeit und hohe Qualität zu gewährleisten. Das EMICON-System ist ein Plasmamonitorsystem, das auf der optischen Emissionsspektroskopie basiert und in Echtzeit gestattet, die Prozesse in Ihrer Plasmaanwendung zu analysieren, zu optimieren und zu steuern.
EMICON MC | Plasma Monitor and Process Control System
The EMICON MC systems are qualified for most applications in plasma technology for analyzing the plasma, for optimizing the process, for plasma monitoring, for quality control and for process controlling. The turn-key EMICON MC systems come with all features necessary for monitoring common plasma processes and for communicating via analog and digital outputs with the application control.
EMICON SA | Plasma Monitor and Process Control System
The EMICON SA systems are especially designed for process control and quality assurance in industrial plants and production lines. The integrated processor unit ensures stand-alone operation in 24/7 mode and easy integration of the EMICON SA system into the system conrol by e.g. LAN or Profibus.
EMICON HR | Plasma Monitor and Process Control System
The EMICON HR system is a high-resolution spectrometer system and it is especially qualified for detailed spectral plasma analysis and plasma monitoring but also for quality control and process controlling. The single channel EMICON HR system comes with all features necessary for monitoring and anaylzing process plasmas in detail.
PLASMA MONITORING &
PROCESS CONTROL
PROCESS CONTROL
Die Prozesssteuerung ist bei industriellen Plasmaanwendungen unerlässlich, um Zuverlässigkeit und hohe Qualität zu gewährleisten. Das EMICON-System ist ein Plasmamonitorsystem, das auf der optischen Emissionsspektroskopie basiert und in Echtzeit gestattet, die Prozesse in Ihrer Plasmaanwendung zu analysieren, zu optimieren und zu steuern.
EMICON MC | Plasma Monitor and Process Control System
The EMICON MC systems are qualified for most applications in plasma technology for analyzing the plasma, for optimizing the process, for plasma monitoring, for quality control and for process controlling. The turn-key EMICON MC systems come with all features necessary for monitoring common plasma processes and for communicating via analog and digital outputs with the application control.
EMICON SA | Plasma Monitor and Process Control System
The EMICON SA systems are especially designed for process control and quality assurance in industrial plants and production lines. The integrated processor unit ensures stand-alone operation in 24/7 mode and easy integration of the EMICON SA system into the system conrol by e.g. LAN or Profibus.
EMICON HR | Plasma Monitor and Process Control System
The EMICON HR system is a high-resolution spectrometer system and it is especially qualified for detailed spectral plasma analysis and plasma monitoring but also for quality control and process controlling. The single channel EMICON HR system comes with all features necessary for monitoring and anaylzing process plasmas in detail.
PLASMA MONITORING &
PROCESS CONTROL
PROCESS CONTROL
Die Prozesssteuerung ist bei industriellen Plasmaanwendungen unerlässlich, um Zuverlässigkeit und hohe Qualität zu gewährleisten. Das EMICON-System ist ein Plasmamonitorsystem, das auf der optischen Emissionsspektroskopie basiert und in Echtzeit gestattet, die Prozesse in Ihrer Plasmaanwendung zu analysieren, zu optimieren und zu steuern.
EMICON MC | Plasma Monitor and Process Control System
The EMICON MC systems are qualified for most applications in plasma technology for analyzing the plasma, for optimizing the process, for plasma monitoring, for quality control and for process controlling. The turn-key EMICON MC systems come with all features necessary for monitoring common plasma processes and for communicating via analog and digital outputs with the application control.
EMICON SA | Plasma Monitor and Process Control System
The EMICON SA systems are especially designed for process control and quality assurance in industrial plants and production lines. The integrated processor unit ensures stand-alone operation in 24/7 mode and easy integration of the EMICON SA system into the system conrol by e.g. LAN or Profibus.
EMICON HR | Plasma Monitor and Process Control System
The EMICON HR system is a high-resolution spectrometer system and it is especially qualified for detailed spectral plasma analysis and plasma monitoring but also for quality control and process controlling. The single channel EMICON HR system comes with all features necessary for monitoring and anaylzing process plasmas in detail.
