PLASMA TREATMENT –
KOMPONENTEN
PLASMA & IONEN-STRAHLQUELLEN
Die für die Behandlung und Modifikation von Oberflächen benötigten Plasmen unterscheiden sich teilweise in Ihren Eigenschaften von den bei der PECVD verwendeten. Der Erzeugung dienen meist die gleichen Prinzipien wie HF- oder Mikrowellen ECR. Um den genauen Effekt auf die Oberfläche einstellen zu können, werden die im Plasma befindlichen Ionen oft nachbe-schleunigt um höhere Energien in die Oberflächen einzubringen, oder aber im Gegenteil dazu sogar vom Substrat ferngehalten um dort möglichst keine Schäden anzurichten.
PLASMA MONITORING & PROCESS CONTROL
Die Prozesssteuerung ist bei industriellen Plasmaanwendungen unerlässlich, um Zuverlässigkeit und hohe Qualität zu gewährleisten. Das EMICON-System ist ein Plasma-monitorsystem, das auf der optischen Emissionsspektroskopie basiert und in Echtzeit gestattet, die Prozesse in Ihrer Plasmaanwendung zu analysieren, zu optimieren und zu steuern.
PLASMADIAGNOSTIK
Das exakte Messen von Prozessparametern ist entscheidend für den Erfolg in der Dünnschichttechnologie. In wenigen Bereichen ist die Prozessstabilität und Wiederholbarkeit so wichtig wie bei der Erzeugung von Schichten im Nanometerbereich. Die Mess- und Sensortechnik von impedans ermöglicht Zugang zu Bereichen an der Grenze des Möglichen.
