Matériaux PVD

CIBLES DE PULVÉRISATION

robeko offre une large gamme de cibles de pulverisation de haute performance pour les magnétrons de tous les fabricants et une variété d’applications telles que les revêtements de grande surface, les optiques de précision, les panneaux tactiles, les revêtements tribologiques et décoratifs.
Notre chaîne d’approvisionnement se compose de capacités de fabrication internes combinées à des partenariats à long terme afin de garantir une qualité maximale, des délais d’exécution minimaux et des prix très compétitifs.

robeko | SPUTTER TARGETS
Sputter Targets

Sputter Targets

Sputter Targets

robeko provides a wide range of high performance thin film coating materials for magnetrons of all manufacturers and a large variety of applications, for example large area coating, precision optics, touch panels, tribological and decorative coatings.
Our supply chain consists of own manufacturing capabilities combined with long-term partnerships to assure maximum quality, minimal lead times and highly competitive prices.

Datasheet

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Copper

Copper Targets

Copper

robeko manufactures planar and cylindrical sputtering targets for application in electronics and display production. We provide cylindrical monolithic targets of industrial standard size. Thus we guarantee maximum material density, small grain size and maximum power density combined with good recyclability. The raw material is always on stock.

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Chromium

Chromium Targets

Chromium

robeko supplies high quality materials such as hipped chromium targets with purity grades ranging from 99.5 to 99.99 %.

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Aluminium

Aluminium Targets

Aluminium

robeko supplies high quality aluminium targets with purity grades ranging from 99.2 to 99.9999 %.

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Titanium & Titanium Alloys

Titanium Targets and Titanium Alloys

Titanium & Titanium Alloys

robeko supplies high quality Ti targets with purity grades ranging from 99.2 (grade 1–2) to 99.99 % and Ti alloys like TiAl36/TiAl50.

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CIBLES DE PULVÉRISATION

robeko offre une large gamme de cibles de pulverisation de haute performance pour les magnétrons de tous les fabricants et une variété d’applications telles que les revêtements de grande surface, les optiques de précision, les panneaux tactiles, les revêtements tribologiques et décoratifs.
Notre chaîne d’approvisionnement se compose de capacités de fabrication internes combinées à des partenariats à long terme afin de garantir une qualité maximale, des délais d’exécution minimaux et des prix très compétitifs.

Sputter Targets

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robeko provides a wide range of high performance thin film coating materials for magnetrons of all manufacturers and a large variety of applications, for example large area coating, precision optics, touch panels, tribological and decorative coatings.
Our supply chain consists of own manufacturing capabilities combined with long-term partnerships to assure maximum quality, minimal lead times and highly competitive prices.

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Copper

Copper Targets

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robeko manufactures planar and cylindrical sputtering targets for application in electronics and display production. We provide cylindrical monolithic targets of industrial standard size. Thus we guarantee maximum material density, small grain size and maximum power density combined with good recyclability. The raw material is always on stock.

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Chromium

Chromium Targets

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Aluminium

Aluminium Targets

Aluminium

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Titanium & Titanium Alloys

Titanium Targets and Titanium Alloys

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robeko supplies high quality Ti targets with purity grades ranging from 99.2 (grade 1–2) to 99.99 % and Ti alloys like TiAl36/TiAl50.

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CIBLES DE PULVÉRISATION

robeko offre une large gamme de cibles de pulverisation de haute performance pour les magnétrons de tous les fabricants et une variété d’applications telles que les revêtements de grande surface, les optiques de précision, les panneaux tactiles, les revêtements tribologiques et décoratifs.
Notre chaîne d’approvisionnement se compose de capacités de fabrication internes combinées à des partenariats à long terme afin de garantir une qualité maximale, des délais d’exécution minimaux et des prix très compétitifs.

Sputter Targets

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robeko provides a wide range of high performance thin film coating materials for magnetrons of all manufacturers and a large variety of applications, for example large area coating, precision optics, touch panels, tribological and decorative coatings.
Our supply chain consists of own manufacturing capabilities combined with long-term partnerships to assure maximum quality, minimal lead times and highly competitive prices.

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Copper

Copper Targets

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robeko manufactures planar and cylindrical sputtering targets for application in electronics and display production. We provide cylindrical monolithic targets of industrial standard size. Thus we guarantee maximum material density, small grain size and maximum power density combined with good recyclability. The raw material is always on stock.

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Aluminium

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Titanium & Titanium Alloys

Titanium Targets and Titanium Alloys

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robeko supplies high quality Ti targets with purity grades ranging from 99.2 (grade 1–2) to 99.99 % and Ti alloys like TiAl36/TiAl50.

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VAPEUR-MATÉRIAUX

robeko – les matériaux d’évaporation sont utilisés dans de nombreuses applications différentes, par exemple l’évaporation par faisceau d’électrons et l’évaporation thermique. Notre vaste gamme comprend des matériaux pour les produits ophtalmiques, l’optique de précision, les revêtements de contact, la microélectronique, etc.
Nous fournissons des les matériaux sous la forme de pastilles, granulés dans différentes tailles de maille optimisées.

robeko | VERDAMPFERMATERIALIEN
Verdampfer-Materialien

Verdampfer-Materialien

Verdampfer-Materialien

Many sputtering targets must be bonded to a backplate or magnetron heatsink. In the area of high sputtering performance, the proper bonding process is essential to ensure the mechanical stability of the target to counteract cracking, deformation, and delamination.

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VAPEUR-MATÉRIAUX

robeko – les matériaux d’évaporation sont utilisés dans de nombreuses applications différentes, par exemple l’évaporation par faisceau d’électrons et l’évaporation thermique. Notre vaste gamme comprend des matériaux pour les produits ophtalmiques, l’optique de précision, les revêtements de contact, la microélectronique, etc.
Nous fournissons des les matériaux sous la forme de pastilles, granulés dans différentes tailles de maille optimisées.

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Many sputtering targets must be bonded to a backplate or magnetron heatsink. In the area of high sputtering performance, the proper bonding process is essential to ensure the mechanical stability of the target to counteract cracking, deformation, and delamination.

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VAPEUR-
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robeko – les matériaux d’évaporation sont utilisés dans de nombreuses applications différentes, par exemple l’évaporation par faisceau d’électrons et l’évaporation thermique. Notre vaste gamme comprend des matériaux pour les produits ophtalmiques, l’optique de précision, les revêtements de contact, la microélectronique, etc.
Nous fournissons des les matériaux sous la forme de pastilles, granulés dans différentes tailles de maille optimisées.

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Many sputtering targets must be bonded to a backplate or magnetron heatsink. In the area of high sputtering performance, the proper bonding process is essential to ensure the mechanical stability of the target to counteract cracking, deformation, and delamination.

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COLLAGE DE LA CIBLE

De nombreuses cibles de pulvérisation doivent être brasées ou collées à une plaque agissant comme dissipateur thermique. Dans les applications de pulvérisation à haute intensité, un processus de brasure optimal est essentiel pour garantir la stabilité mécanique de la cible afin de contrer sa fissuration, sa déformation et sa délamination. Notre personnel peut s’appuyer sur des décennies d’expérience dans ce domaine et peut vous fournir des conseils détaillés et vous aider à choisir le processus approprié…

robeko | TARGET BONDEN
Target Bonden

Target Bonden

Target Bonden

Many sputtering targets need to be bonded to a backing plate or a magnetron body. When it comes to high power sputtering with low target cracking and good mechanical stability, the bonding procedure is crucial. Our engineers and bonding staff can look back on many years of experience in providing joining techniques to correlate with different material combinations and applications. The right choice of adherence coating, diffusion barriers and the adequate bonding method is a prerequisite for obtaining perfect results.

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COLLAGE DE LA CIBLE

De nombreuses cibles de pulvérisation doivent être brasées ou collées à une plaque agissant comme dissipateur thermique. Dans les applications de pulvérisation à haute intensité, un processus de brasure optimal est essentiel pour garantir la stabilité mécanique de la cible afin de contrer sa fissuration, sa déformation et sa délamination. Notre personnel peut s’appuyer sur des décennies d’expérience dans ce domaine et peut vous fournir des conseils détaillés et vous aider à choisir le processus approprié. Le bon choix de la couche adhésive, de la barrière de diffusion et de la méthode de collage optimale associée est la condition préalable à des résultats parfaits.

Target Bonden

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Many sputtering targets need to be bonded to a backing plate or a magnetron body. When it comes to high power sputtering with low target cracking and good mechanical stability, the bonding procedure is crucial. Our engineers and bonding staff can look back on many years of experience in providing joining techniques to correlate with different material combinations and applications. The right choice of adherence coating, diffusion barriers and the adequate bonding method is a prerequisite for obtaining perfect results.

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COLLAGE DE
LA CIBLE

De nombreuses cibles de pulvérisation doivent être brasées ou collées à une plaque agissant comme dissipateur thermique. Dans les applications de pulvérisation à haute intensité, un processus de brasure optimal est essentiel pour garantir la stabilité mécanique de la cible afin de contrer sa fissuration, sa déformation et sa délamination. Notre personnel peut s’appuyer sur des décennies d’expérience dans ce domaine et peut vous fournir des conseils détaillés et vous aider à choisir le processus approprié. Le bon choix de la couche adhésive, de la barrière de diffusion et de la méthode de collage optimale associée est la condition préalable à des résultats parfaits.

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Many sputtering targets need to be bonded to a backing plate or a magnetron body. When it comes to high power sputtering with low target cracking and good mechanical stability, the bonding procedure is crucial. Our engineers and bonding staff can look back on many years of experience in providing joining techniques to correlate with different material combinations and applications. The right choice of adherence coating, diffusion barriers and the adequate bonding method is a prerequisite for obtaining perfect results.

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