Beschreibung

Plasmamonitor- und Prozesskontrollsystem PLASUS | EMICON 1SA

Die EMICON SA Systeme sind speziell für den Einsatz zur Prozessregelung und zur Qualitätssicherung in Industrieanlagen und Produktionslinien entwickelt worden. Die integrierte Prozessoreinheit ermöglicht einen 24/7 Stand-Alone Betrieb und die einfache Integration des Systems z.B. per LAN oder Profibus in die Anlagensteuerung.

Applikation

  • Prozessregelung in reaktiven Sputterprozessen(Gasfluss/Leistung)
  • Ionendichteregelung in HIPIMS-Prozessen
  • Überwachung der Prozessstabilität
  • Endpunktbestimmung in Plasma-Ätzprozessen
  • Ortsaufgelöste Prozessüberwachung von großflächigen Anwendungen
  • Erkennung und Überwachung von Plasmaverunreingungen

Merkmale

  • Stand-Alone Betrieb (24/7)
  • Prozesskontrolle mit Sollwertfunktion und PID Regelfunktion
  • Mehrkanalsysteme für ortsaufgelöste Messungen
  • Spannungseingänge für externe Sensorsignale (λ-Sonde, Targetspannung)
  • Digitale und analoge Ein- und Ausgänge zur Systemintegration
  • PROFIBUS und LAN Schnittstelle zur Anlagenintegration
  • Konfiguration über LAN mit Windows Software