Swing Cathodes von Sputtering Components wurden speziell für die Beschichtung von großflächigen Substraten mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit entwickelt

Swing Cathodes von Sputtering Components wurden speziell für die Beschichtung von großflächigen Substraten mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit entwickelt

Swing Cathodes wurden speziell für die Beschichtung von großflächigen Substraten mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit entwickelt.

Dabei wird der zusätzliche – programmierbare Motor verwendet, der die Magnetpackung unabhängig vom rotierenden Zielrohr schwingt.

Swing Cathodes sind in der Lage, eine Beschichtungsgleichmäßigkeit von < ±1% over the entire target life-time. Including many other advantages, the swing cathode is an ideal system to overcome many application limitations especially in 3D and large area display coatings.

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Swing Cathodes from Sputtering Components are specially designed to coat large area substrates with excellent uniformity

Swing Cathodes are specially designed to coat large area substrates with excellent uniformity. This uses the additional – programmable motor which swings the magnet pack independent of the rotating target tube.

Swing Cathodes are able to produce a coating uniformity of < ±1% over the entire target life-time. Including many other advantages, the swing cathode is an ideal system to overcome many application limitations especially in 3D and large area display coatings.

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Swing Cathodes von Sputtering Components wurden speziell für die Beschichtung von großflächigen Substraten mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit entwickelt

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