robeko informiert über High Power Impulse Magnetron Sputtering – HiPIMS

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robeko - robeko informiert über High Power Impulse Magnetron Sputtering - HiPIMS

High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS)

ist eine sehr wichtige und revolutionierte PVD-Technik, die hochdichtes Plasma und einen verbesserten Ionisationsgrad von Sputtermaterial aufweist und dadurch hochwertige Dünnschichten liefert. Aber um komplexe und präzise dünne Filme in der reaktiven Atmosphäre zu deponieren, ist es sehr wichtig, die Plasmazusammensetzung zu überwachen und zu kontrollieren, um die erforderliche Schichtstoichiometrie zu erreichen. Seit Jahren wird beklagt, dass herkömmliche Überwachungstechniken bei der Kontrolle reaktiver HiPIMS-Prozesse nicht zufriedenstellend sind. Das fortschrittliche spektroskopische Plasmaüberwachungssystem wurde von PLASUS entwickelt, das es ermöglicht, sowohl den Ionisationsgrad als auch die Stoichiometrie gleichzeitig zu steuern.

Dieses fortschrittliche EMICON SA-System mit neuem Pulse- und HiPIMS-Sensor zeichnet Spitzenstrom und Spitzenspannung auf, die auch mit der spektroskopischen Plasmaüberwachungstechnik in einem einzigen System kombiniert werden.

Technische Informationen herunterladen: Link


High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS)

is a very important and revolutionized PVD technique which exhibits high density plasma and enhanced degree of ionization of sputtering material providing superior quality thin films as a result. But, to deposit complex and precise thin films in the reactive atmosphere, it is very much important to monitor and control the plasma composition to achieve the required layer stoichiometry. It has been a complaint for years that conventional monitoring techniques are not satisfactory in controlling reactive HiPIMS processes. Addressing the demand, advanced spectroscopic plasma monitoring system is developed by PLASUS, which allows to control both degree of ionization and stoichiometry simultaneously.

This advanced EMICON SA system with new Pulse and HiPIMS sensor, records peak current and peak voltage also combined with the spectroscopic plasma monitoring technique in a single system.

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2020-08-02T13:08:05+02:0015. Juni 2020|