Planare Sputterquellen: rund oder rechteckig
In Deutschland, Österreich und der Schweiz vertritt Robeko exklusiv Gencoa - einen der führenden Hersteller planarer Magnetronsputterquellen. Das Lieferprogramm reicht über UHV-Quellen für die Forschung bis hin zu großflächigen Magnetrons für den industriellen Einsatz.
Gencoa verfügt als einziger, unabhängiger Hersteller von Sputterquellen über tiefgehendes Prozesswissen und die Möglichkeit zur Prozessentwicklung im eigenen Haus.
Unser umfangreiches Sortiment umfasst Rundquellen und Rechteckquellen für Targetabmessungen zwischen 50 mm Durchmesser und 4.000 mm Länge.
Allen gemeinsam sind das sorgsam berechnete Magnetfeld, das durchdachte Design und ein vielfältiges Zubehör. Bei allen Sputterquellen können Sie zwischen verschiedenen, auf Ihren individuellen Prozess abgestimmte, Magnetfeldoptionen wählen:
Standard

High Yield (HY): Targetausnutzung >40%

FFE - Full Face Erosion, hohe Targetausnutzung, optimal für Partikelfreiheit und Reaktivprozesse

LOOP - sputtern magnetischer Materialien mit hoher Targetausbeute (40%) und großer Targetdicke

Mz: Hochratesputtern von Metallen, Ausbeute: 70 - 80 %

VTech: Variable Magnetfelder, im Prozess einstellbar. Ein ideales Entwicklungs- und Prozesswerkzeug, wenn Parameter im Prozess geändert werden sollen.

HU: hohe Schichtdickenhomogenität

Sie sind wartungsarm und verfügen über vielfältige Einbauvarianten:

Externe Montage
Interne Montage
Cantilever
Anoden: gekühlt, ungekühlt, versteckte

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Rolf Schäfer Beschichtungskomponenten
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