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Komponenten für die Dünnschichttechnik
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Donnerstag 01.01.1970 - 01:00

Plasmageneratoren

Wir arbeiten mit führenden Herstellern ADL, Magpuls und Seren IPS.

Donnerstag 01.01.1970 - 01:00

Planare und zylindrische Sputtertargets

Seit seiner Gründung liefert robeko Sputtertargets und Beschichtungsmaterialien für Aufdampfen und Lichtbogenverdampfung...

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Aufdampfmaterialien

Robeko liefert Aufdampfmaterialien für die verschiedensten Anwendungen und Verdamfungsverfahren

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Schichtentwicklung

Zündung eines reaktiven Multischichtsystems. Entwickelt im BMBF-Projekt ERaBond, Projektkennzeichen 16SV5582

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Zylindrische Sputterquellen von SCI

Zylindrische Sputterquellen bzw. Rohrkathoden finden Anwendung in der Beschichtung von Architekturglas, Dünnschichtsolarzellen, Flachbildschirmen, Touch Panel Displays und Folien.

Vorteile von Rohrkathoden sind hohe Standzeit durch grosses Materialdepot sowie hohe Targetausbeuten sowie geringere Partikelbildung als bei Planaren Sputterquellen und bessere Prozesstabilität.

robeko bietet Rohrkathoden von Sputtering Components, Inc. einem der weltweit führenden Hersteller. [mehr]

robeko auf PV-Technology Show München
robeko auf der Optatec Frankfurt 2014
robeko bei der Beratung, Optatec Frankfurt 2014

Planare und zylindrische Sputtertargets

Seit seiner Gründung liefert robeko Sputtertargets und Beschichtungsmaterialien für Aufdampfen und Lichtbogenverdampfung.

Seit 2011 verfügen wir über eine eigene Stranggießanlage und können für In, Sn und Zn die komplette Prozesskette vom Umformen über das Zerspanen bis hin zum Beschichten und Bonden im eigenen Hause abdecken.

Die Lagerhaltung gängiger Materialien wie Al, Cr, Cu, Ti, W, Zr, usw. erlaubt uns schnelle Reaktion und kurze Lieferzeiten. (mehr)

Inline Sputteranlage ZV1200

Gesamtansicht ZV1200
Ansicht Rohrkathoden

Seit Ende 2013 verfügt robeko über eine Inline-Sputteranlage für Substrate der Abmessung 600 x 800 mm. Die Maschine wird eingesetzt für Schichtentwicklung für Kunden, Machbarkeitsstudien, Komponententests sowie Kleinserienfertigung.

Die Basis der Maschine bilden Prozessmodul und Schleus einer gebrauchten Leybold Inline-Anlage des Typs ZV1200. Die Anlage ist komplett neu Automatisiert und erlaubt Datalogging aller Prozessparameter. 

Die Anlage ist für die beidseitige Beschichtung von Substraten eingerichtet. Eine Seite wird mit 3 Planarkathoden PK750 ausgestattet, auf der zweiten Seite sind eine Doppelrohrkathode mit Targetlänge 550 mm und eine Plasmaquelle (beides von Sputtering Components) installiert. In Kombination mit einem Reaktivgasregler speedflo erlaubt die ZV1200 eine flexible Schichtentwicklung incl. Untersuchung reaktiver Prozesse. Die Anlage verfügt über aktuellste Generatortechnik im Bereich DC, MF und bipolaren Pulsern.

Aktuelle Projekte beziehen sich auf das reaktive Sputtern von Al2O3, Si3N4 sowie Metallisierungen mit Kupfer.